高频（1–30 MHz）环境下介电常数稳定在7–9区间，显着低于氧化铝（ε≈9–10）等传统陶瓷。归因于Si-N键的低极性及β-Si₃N₄晶体对称性，削减交变电场中的极化损耗，适用于射频加热体系。

　　电阻率＞10¹⁴ Ω·cm（1600℃仍坚持＞10⁶ Ω·cm），电子逸出功高达5.0 eV，按捺高温电子发射导致的能量丢失。

　　热膨胀系数（3.2×10⁻⁶/K）与金属钼挨近（5.8×10⁻⁶/K），抗热震参数R＞800 K，耐受电子束功率突变（ΔT＞1000℃/min）而不开裂。

　　与熔融钛、锆等活性金属反应能垒＞200 kJ/mol，高温下无界面潮湿（接触角＞120°），防止金属浸透腐蚀。

　　热导率提高100%（Si₃N₄ 30 W/m·K vs ZrO₂ 2 W/m·K），熔体温度均匀性更佳

　　介电常数温度稳定性稍弱（ZrO₂在20–1000℃ Δε＜5%，Si₃N₄ Δε≈8%）

　　场景兼具低介电损耗、高温强度及化学稳定性三重优势，十分适合于活性金属提纯。

　　氮化硅低介电坩埚正逐渐代替石墨与金属坩埚。海合精细陶瓷有限公司经过开发非晶Si-B-C-N晶界相（介电常数ε≈5.8）及微波辅佐烧结技能，使产品在40 MHz高频下的损耗角正切值降至10⁻⁵等级。未来将在半导体级硅料熔炼、聚变堆包层资料制备等超高频场景完成打破。