国家知识产权局信息数据显现，上海新微技能研制中心有限公司请求一项名为“一种具有三层波导的层间耦合器及其制备办法”的专利，公开号CN121348498A，请求日期为2025年12月。

　　专利摘要显现，本发明供给一种具有三层波导的层间耦合器及其制备办法，耦合器包含：衬底和其上的包覆层；包覆层中距离设置有氮化硅波导层、氮氧化硅波导层和硅波导层；氮化硅波导层包含入射光栅、榜首传输波导和榜首耦合光栅；氮氧化硅波导层包含第二耦合光栅、第二传输波导和第三耦合光栅；硅波导层包含第四耦合光栅和第三传输波导；榜首耦合光栅和第二耦合光栅构成榜首层间耦合区；第三耦合光栅和第四耦合光栅构成第二层间耦合区；氮氧化硅波导层的折射率自上而下逐步增大。本请求经过运用折射率介于氮化硅和硅资料之间的氮氧化硅并使之折射率骤变作为中心过渡层，再结合光栅级联结构，处理了从氮化硅波导到硅波导折射率骤变导致的模场失配问题。

　　天眼查资料显现，上海新微技能研制中心有限公司，成立于2013年，坐落上海市，是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本144416万人民币。经过天眼查大数据分析，上海新微技能研制中心有限公司共对外出资了21家企业，参加招投标项目485次，产业线条，此外企业还具有行政许可46个。

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